东洋炭素株式会社是拥有80多年历史的集团公司，总部位于日本大阪市。公司生产和销售电刷、等静压石墨、C/C复合材料及其它特殊炭素制品。集团公司于2006年3月在东京证券交易所成功上市，海外公司分布美洲、欧洲和亚洲地区。

上海东洋炭素有限公司成立于1994年，公司位于上海市松江工业区，是日本东洋炭素株式会社在中国的全资子公司，公司主要生产、加工、销售各种特殊炭素制品，产品广泛应用于半导体、光伏、光纤、冶金、有色金属、家电、模具、石油、化工、造纸、玻璃、航空航天等工业领域。

产品介绍

半导体级单晶热场

（纯度等级5ppm;SIC涂层）

用途介绍：在半导体器件用途，将多晶硅料经过加热熔化，通过直拉法（CZ）进行单晶硅棒生产。CZ热场提供加热、保温、承载及导流等功能。

用途要求：氩气或真空环境中，通过石墨加热器发热至1600℃左右，对石墨坩埚内的多晶原料加热，熔化成液体，通过控制液面温度，提拉籽晶，最终长成单晶棒。

TOYO对应产品

碳化硅长晶热场

用途介绍：碳化硅长晶的原理主要是利用碳化硅在高温环境下的自发长晶能力，经过高温热处理沉积在SiC籽晶上，通过晶体生长形成单晶层。

用途要求：使用高纯、高温稳定的SIC粉体原料，将SIC籽晶固定在高温炉中，通过化学气相沉积技术使碳源在炉内分解，在合适的温度下进行高温处理，利用碳化硅晶体在高温下的热应力不均匀进行传输和气相沉积，从而形成单晶。

TOYO对应产品

MOCVD石墨件

用途介绍：（金属有机化合物化学气相沉淀)简称，是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长源材料，以热分解反应方式在衬底上进行气相外延，生长各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。

用途要求：MOCVD系统中的晶体生长都是在常压或低压(10-100Torr)下,用射频、热辐射、感应等方式加热石墨基座(衬底基片在石墨基座上方),衬底温度为500-1200℃，H2通过温度可控的液体源鼓泡携带金属有机物到生长区，进行气相沉积。本用途要求石墨基座具有优良的耐热性、导热性及耐氨气腐蚀性，一般采用在石墨表面气相沉积碳化硅的方式，如“PERMA-KOTE”石墨基座，已经被广泛使用在MOCVD设备中。"PERMA-KOTE"是指采用东洋炭素专有的化学气相沉积（CVD)工艺在高度纯化的各项同性石墨的表面沉积碳化硅薄膜的产品。

TOYO对应产品

离子注入石墨件

用途介绍：离子注入是将某种元素电离成离子，并使其在电场中加速，获得一定能量后注入固体材料表面内一定深度，以改变材料的物理、化学特性的一种技术。在离子的发生、偏转及接收位置，都需要相应的石墨部件。

用途要求：要求石墨产品具有高纯度以避免污染，高硬度、高强度、高密度等以减少自身颗粒的析出。

TOYO对应产品

半导体级高纯碳毡

（代理大阪燃气化学产品）

材料介绍：以聚丙烯腈、粘胶及沥青为基材的炭纤维制成的软炭毡及固化炭毡等断热材料，具有质量轻、耐高温、高保温性、高纯度等特性。

应用介绍：广泛应用于半导体、能源、机械等工业领域。产品有平板形、圆柱体型等多种形状，广泛应用于高真空与惰性气体保护状态下高温炉体保温、断热。例如：传统真空热处理炉、钎焊炉、、烧结炉、真空镀膜炉及其他高真空及惰性气体保护之高温设备，个别行业需要设备升温高达3000℃。

优点：无需支撑物即可装卸，易于架设、拆装。

TOYO对应产品

高纯石墨纸

材料介绍：石墨纸是选用天然石墨先做酸洗浸泡处理，再进行高温膨胀之后压缩形成的片状石墨产品。具有优异的耐热性、耐化学腐蚀性、气密性、高压缩恢复性和高导热性。

应用介绍：TOYO的石墨纸具有优异的密封性、耐久性和可加工性，同时拥有丰富的尺寸和形状，包括卷材、切片等。适用于很多场景，如：汽车垫片、一般工业装填、耐腐蚀密封件等，其中经过高纯处理的产品被用作核能工业元件、半导体工业中使用的衬垫和装填、电子领域中使用的散热板等。

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